来历：DIGITIMES ASIA
佳能估计其纳米压印光刻机将在本年出货，与ASML的EVU装备竞争市。捎谑澜绺鞯氐木锰宥既戎性诶┱蛊浔就列酒。
佳能董事长兼首席履行官Hiroaki Takeishi向英国《金融时报》暗示，公司规划在2024年最先出货其纳米压印光刻机FPA-1200NZ2C，并增补说芯片可以轻松以低成本制造。2023年11月，该公司暗示该装备的价格将比ASML的EUV呆板自制一名数。
佳能暗示，与使用光暴光电路图案的传统光刻技能差别，纳米压印光刻不需要光源，使用简朴的道理形成电路，只需将电路图案掩模转移到晶圆外貌涂覆的抗蚀剂上便可。此外，纳米压印光刻技能可以一次形成繁杂的二维及三维图案，与进步前辈的逻辑暴光技能比拟，功耗可降低约十分之一。
Takeishi暗示，佳能其实不筹算从（ASML的）EUV中掠取市场份额，公司信赖多种光刻技能可以共存，为行业的总体增加做出孝敬。
Ansforce首席履行官Jeff Chu暗示，因为今朝年夜容量NAND闪存采用3D重叠布局，更合适纳米压印光刻。Bits Chips报导称，SK海力士及Kioxia多年来一直于测试佳能的纳米压印光刻机。只管云云，SK海力士于2023年5月暗示，纳米压印光刻技能的引入可能或者贸易化还没有会商。
采用该技能制造的芯片的良率还有有待不雅察。英国《金融时报》援引阐发师的话称，良率必需靠QM球盟会·(中国),球盟会-近90%才能与ASML的技能竞争。Radio Free Mobile的开创人Richard Windsor暗示，假如这项技能真的更进步前辈的话，那末它此刻就已经经投入运行，并年夜量投放市场了。
Takeishi告诉英国《金融时报》，佳能已经经基本解决了这个问题。然而，因为现有的芯片制造工艺是针对于EUV举行优化的，是以引入新技能会碰到各类坚苦。
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